Nuevas tecnologías de 28, 20 y 16nm en TSMC

(cc) TSMC

El CEO de TSMC confirmó la estrategia futura para los nodos de 20 y 16nm, dando detalles sobre las tecnologías que vendrán, como la litografía EUV.

En una conferencia sobre los resultados del segundo trimestre de actividad, Morris Chang, CEO de TSMC, confirmó la estrategia futura para los nodos de 20 y 16nm, dando al mismo tiempo algunos detalles sobre las tecnologías que vendrán.

En cuanto al actual nodo de 28nm, el fabricante confirma el crecimiento en importancia de las versiones high-k de su proceso. TSMC había lanzado en un primer momento, una versión 28LP, más simple, antes de distribuir progresivamente versiones high-k. Estas últimas (28HP, HPL, HPM) serán la mayor parte de la producción de 28nm.

En total, la producción de 28nm habrá triplicado en el año, donde TSMC  indica que estar adelantada significativamente en los yield con respecto a la competencia en las versiones bulk, y menciona no tener aún competencia seria en el high-k.

Hacemos la remarca que los diferentes procesos 28nm de Global Foundries (28SLP, HPP y LPH) son todos high-k, y en Samsung, una pequeña cantidad de Exynos 5 Octa (utilizados sólo en algunas versiones del Galaxy S4) fueron producidas igualmente en su versión del proceso 28 HKMG.

Las dificultades de Common Plataform con el 28nm, no parecen haber terminado, si se considera, por ejemplo, el reporte supuesto de Kaveri para principios de 2014. En todo caso, TSMC estima que dispone de una ventaja substancial en términos de rendimiento/consumo/yields.

Para los nodos siguientes, el desarrollo acelerado en paralelo del 20 y del 16nm continua. Se ha anunciado el inicio de la producción del nodo 20nm para febrero 2014, mientras que la “risk production” de wafer,  ha comenzado desde el primer trimestre. Los fabricantes de GPUs han utilizado en el pasado estos wafers.

La producción en volumen del 16nm, comenzará un año después de la del 20nm, es decir, en febrero de 2015.

Con respecto a los nodos siguientes, en especial la litografía EUV, Morris Chang confirmó lo que indicaba ASML, el avance logrado sobre las fuentes luminosas, que está por confirmar, con una demostración estable con una fuente de 80W.

Podemos notar finalmente, que TSMC predice para el próximo año, un crecimiento significativo de la demanda de los chips que integrarán la nueva tecnología.

Link : Des nouvelles des 28, 20 et 16nm chez TSMC (hardware.fr)

También puedes comentar en nuestro foro.

powered byDisqus